IVD離子輔助蒸發技術 當前位置:主頁 > 技術說明 > IVD離子輔助蒸發技術
IVD是離子輔助蒸發鍍膜技術（Ion Assisted Vapor Deposion）的簡稱，是在傳統的蒸發鍍膜的基礎上，利用離子鍍的原理，提高蒸發鍍膜的離化率，進而提高蒸發鍍膜層的性能。
IVD鍍鋁技術廣泛應用于各種軍用、民用的防腐功能涂層，用于替代電鍍，例如：釹鐵硼表面鍍鋁防腐，航空緊固件鍍鋁防腐等。
推動產業進步 創造無限可能
推動產業進步 創造無限可能
TECHNICAL
Recommended equipment
eArctic AS680 Plus
eVorizon VL系列 磁控…
eHorizon HL系列 磁控…
eMeridian RR-E系列 電…
eMeridian RR-R系列 送…
Hot News
Naura Prochina Limited.
鍍膜設備
解決方案
技術說明
技術服務
關于丹普
Copyright © 2004-2025 www.kdlxs.cn 北京北方華創丹普表面技術有限公司 版權所有 京ICP備05016945號-1 
京公網安備 11010502053715號 RSS
